据路透社报道，ASML正在着手研发价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新EUV光刻机，有望2023年上半年完成原型机。
业界猜测，这款新机应该指的就是High-NA EXE:5200（0.55NA）。据了解，ASML下一代EUV 0.55NA平台有望使芯片尺寸减小1.7倍，进一步提高分辨率，并将微芯片密度提高近3倍。
同时，新一代High-NA EUV光刻机机型约有双层巴士大小，重量超过200吨。比现售的0.33NA EUV光刻机大出30%，售价约是0.33NA EUV的2倍。该设备精密度更高、所使用的零部件更多，可用于生产下一代芯片，芯片终端领域可覆盖手机、笔电、汽车、AI等。
目前，为克服技术挑战，ASML正与全球最大的微电子研发机构IMEC共同建立测试实验室。根据预估，该新型光刻机有望2023年上半年完成原型机，最早2025年投入使用，2026年到2030年主力出货。
