近日韩媒引述ASML财报称，ASML收到了TWINSCAN EXE:5200的额外订单，所有当前的EUV客户都已经下单了下一代半导体设备“High-NA”，这其中包括三星和SK海力士。
图：ASML 最新一代High-NA EUV
据悉，High-NA EUV设备是表示光的集光能力的镜头开口数（NA）从0.33提高到0.55的设备。与现有EUV设备相比，High-NA EUV设备可以绘制出更细微的半导体电路。因此业内普遍认为，要实现2nm工艺，High-NA设备将起到关键作用，甚至是必要条件。此前英特尔、台积电都已宣布订购“High-NA”EUV设备，随着三星电子和SK海力士的入局，2nm制程技术的争夺将更加激烈。据韩国设备商透露，现款EUV光刻机的订货价是2000~3000亿韩元（约合10~16亿元人民币），而高NA EUV光刻机的报价翻番到了5000亿韩元（约合26亿元人民币）。ASML首席执行官Peter Wennink在财报会议上表示，第三季度预订销售额约89亿欧元，其中High-NA系统等EUV设备销售额达到38亿欧元。
