近日据韩媒ITNews报道，韩国半导体材料企业Dongjin Semichem（东进半导体）在最近自主开发并商业化的EUV光刻胶中发挥了核心作用，并已开始了无机EUV光刻胶的开发。
图：东进半导体华城园区
芯片大师曾报道被日本“卡脖”3年后，韩国突破了EUV光刻胶，由于三星将该产品用于实际的半导体生产，东进半导体成为韩国第一家将EUVPR国产化至量产水平的公司。
目前，东进半导体已开始开发基于无机 (MOR) 的极紫外 (EUV) 光刻胶 (PR)，这是下一代半导体超精细加工必不可少的材料。同时，日本的光刻胶大厂JSR也正在开发MOR PR，旨在成为世界领先者。
由于与有机（CAR）PR相比，MOR PR在光吸收方面是一种更优异的材料，因此有望用于超精细半导体的生产线，而光刻胶是应用于晶圆以实现半导体电路的关键材料。
据悉，日本JSR的子公司Inpria正在开发无机PR，目标是成为世界上第一个量产它的公司。Inpria是一家成立于2007年的美国无机化学公司，于2021年被JSR收购，随后日本JSR开始准备向三星电子、SK海力士、台积电、英特尔等公司供应无机PR，用于内存和系统半导体制造。
东进半导体在2019年日本出口管制后，一直在推动EUV PR的发展。通过与三星电子的合作，东进半导体成功地将EUV PR应用于半导体生产线，此外还有氟化氪（KrF）、氟化氩（ ArF）光刻胶。
为响应韩国国内的PR需求，东进在京畿道华城工厂投资1,127亿韩元。由于三星电子使用了东进半导体的EUV PR，因此提出了在无机EUV PR上的合作潜力，SK海力士也对无机光刻胶表现出兴趣。
