图:三星基于GAA的3nm工艺
报道称,台积电将于2022年下半年开始量产3nm产品,并获得苹果和英特尔的大笔订单。然而,台积电为三星提供了拉近差距的机会,因为前者在提高其 3nm工艺的良率和增加产量方面遇到了延迟。
一位半导体专家表示,台积电将能够在3nm工艺上保持对三星的优势,但预计这两个竞争对手将在基于全栅 (GAA) 的2nm工艺中正面竞争,时间节点为2025年。由于晚于三星切入GAA架构,他预测,台积电在引入基于GAA的2nm工艺的过程中将面临良率的困难。
虽然三星电子将于2022年6月进入基于GAA的3nm工艺,但台积电计划在今年下半年将现有的鳍式场效应晶体管 (FinFET) 技术应用于其初代3nm工艺,而2025年从2nm工艺才开始应用GAA技术。
Digitimes 预测,三星电子将在2023年进入第二代3-nm工艺,并在2025年进入基于MBC FET的2-nm工艺。“但是,三星基于GAA的3-nm工艺的客户订单量少,生产量小,其主要目标是推广技术,”报道称,“从2023年到2025年,三星将无法在3nm工艺上抢走台积电的客户。
Digitimes 补充说:“三星的真正目标是在2025年在基于GAA的2nm工艺中超越台积电,两者将在2025年进行一场至关重要的比赛。”