近日，英特尔公布其位于爱尔兰的Fab 34迎来第一台EUV光刻系统，同时为下一代光刻机（High NA）准备的D1X工厂举行扩建仪式。
图：正在入厂的部分EUV系统
早在2012年7月，英特尔就向ASML的EUV开发计划投资了41亿美元——其中31亿美元用于购买ASML的股票，10亿美元用于资助EUV研发。
有趣的是，尽管制造EUV的ASML位于荷兰，但这是欧洲晶圆厂有史以来第一次安装EUV，而英特尔爱尔兰厂也可以说为此等待了10年。
因为ASML EUV系统的另外两大“金主”兼客户是台积电和三星，和英特尔三家合计占了ASML 2021年营收的84%，而此前安装EUV的先进晶圆厂均位于亚洲和美国。
据介绍，本次该EUV系统属于NXE 3000系列，采购均价约为2亿美元，用于Intel首个使用EUV的工艺——Intel 4（相当于台积电4nm），而整座爱尔兰晶圆厂（Fab 34）总投资达70亿美元，是Intel第二座、欧洲第一座EUV工艺晶圆厂。
图：EUV光刻系统内部特写
英特尔称，这座EUV系统由10万个零件、3千根电缆、4万个螺栓组成，此前已经花费18个月的设计和施工来建设容纳这座机器的大楼。
同时，构成该系统的模块由全球60个地点制造发货，ASML会组装测试后将其拆解，再运到客户指定位置。而运输这个庞然大物需要4架波音747货运飞机满载，然后陆运部分由35辆卡车分批送入厂房。
目前，为了光刻机的顺利安装并对英特尔员工进行培训，ASML已经安排超过100名工程师进入该厂进行技术指导。
图：为下一代EUV准备的英特尔工厂
而另一台售价高达3亿美元的High NA EUV系统第一台预计将被英特尔拿到，为它准备的厂房则也在紧锣密鼓的准备中。
本周，Intel在位于美国俄勒冈的D1X工厂举办隆重的Mod3扩建仪式，投资达30亿美元，并将其命名为戈登摩尔（英特尔创始人之一）公园。
图：两代EUV系统体积对比
D1X-Mod3的重大意义在于，为工厂增加了2.5万平米的洁净室空间，将D1X扩大了20%，这便为最终足以搬进ASML的下一代最先进高数值孔径（High NA）EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200 EUV创造必要条件。
因为和服务Intel 3/4工艺的NXE 3000系列EUV光刻机相比，EXE 5200的体积大了很多，突破了D1X原来的“天花板”。而这台机器可以为英特尔18A工艺制程提速，直接对标的是台积电的2nm。
而有能力购买并使用它的客户预计不超过五家。
