4月13日南大光电表示，旗下用于90nm-28nm制程的ArF光刻胶已分别通过存储芯片制造和逻辑芯片制造企业验证。
来源：南大光电
南大光电称，通过验证的一家客户从去年8月份以来，一直正常购买公司光刻胶产品。因为是客制化产品，暂未形成规模销售。ArF光刻胶根据客户订单情况进行生产销售，目前项目延期至2022年底，公司将通过统筹协调全力推进，力争早日完成该项目建设。
公司ArF光刻胶产品第一步是要完成替代进口，进口替代任务完成后，再进行品质提升。目前公司ArF光刻胶是从核心原材料开始进行研发，彻底解决卡脖子问题。
南大光电表示，先进前驱体材料如28nm和14nm制程前驱体、硅前驱体等产品研发和产业化取得重要突破。氢类电子特气在技术、品质、产能和销售各方面已跃居世界前列。氟类电子特气方面公司加快乌兰察布“试验田”建设，为建设“世界单项冠军”产品奠定坚实的基础。
